最新网址:wap.wangshugu.org
东京半导体设备展有很多年历史,今年因为新芯宣布旗下的光刻机业务条线突破了40nm工艺制程,导致这次的东京半导体设备展格外引人注目。
新芯这个名字在半导体行业内并不陌生,甚至颇有种大名鼎鼎的味道在内,因为这家企业和它的创始人周新一样,迅速崛起后在业内占据了重要的地位。
台积电被它压制的极其难受,ARM的移动芯片架构成为主流新芯功不可没,德州仪器、三星、英特尔这些老牌巨头纷纷下注移动芯片同样是因为新芯。
因为新芯的地位和行业口碑,让大家相信新芯确实突破了40nm工艺制程,尤其是友商们,他们更关注另外一件事。
“新芯是如何做到的?”在东京半导体展的开幕式上,小松正志低声问他旁边的佐藤博人。
小松正志是霓虹EUVA的执行董事,同时也是小松株式会社的会长,小松株式会社是光源制造商。
在霓虹产经社的主导下,尼康、佳能、小松株式会社、东芝和三菱等等都是EUVA的成员,EUVA的全称是极紫外光光刻开发协会,极紫外光就是13.5nm波长的光。
因此新芯宣布攻克40nm制程后,EUVA的成员们并没有太大的危机感,因为他们一旦攻克了极紫外光,那么从65nm制程一直到5nm都将畅通无阻。
甚至站在EUVA,也就是协会的立场和小松株式会社的立场来说,小松正志有点巴不得新芯是真的突破了,也就是说那种可以用在大规模生产上有良品率保障的突破,而别是实验室突破。
因为新芯攻克了40nm工艺制程,意味着EUVA会获得更多的资源支持,小松株式会社作为其中唯一的光源制造商,自然也会获得更多的资源扶持。
至于新芯在光刻机市场上彻底击败霓虹,小松正志从来没有想过这种可能性,在他看来这是不可能的事情。
不过后世ASML能够借助技术优势几乎在短短三年时间内彻底实现逆转,打的尼康和佳能永世不得翻身,这完全不是市场化行为,而是ASML背后的阿美利肯资本主导下的行为。
为什么这么说,因为在ASML靠着浸润法率先攻克40nm的工艺制程并获得英特尔的生产验证后,他们召开了光刻未来技术研讨会,会上邀请了10家主要的芯片制造厂商,也就是他们的主要客户。
会上,ASML表示他们已经借助浸润法成功攻克了那道门槛,也就是卡住芯片工艺继续发展的门槛,希望大家支持浸润法光刻机作为未来唯一的技术路线,说白了就是只支持ASML。
在场10家芯片制造厂商里有6家技术代表你们的浸润法光刻机没问题,但是我们也希望让157nm干式光刻机继续发展作为备份的技术路线,因为这样一旦浸润式光刻机技术路线遇到阻碍,我们还有第二个选项。
这是非常合理的要求,站在当时那个视角来看,没人能保证浸润式绝对没有问题,工艺制程的发展能够一马平川,毫无阻碍。
结果就是ASML在该会议上痛批这帮芯片制造厂商的技术代表们没有远见,观点的参考价值极其有限。
ASML组织了这次技术研讨会,研讨会后却完全没有用会议的讨论结果,在背后资本主导下,尼康和佳能的157nm干式光刻机失去了整个西方资本主导下芯片代工的市场。
小松正志和他的小松株式会社也在这过程中消失在行业内,再也没有了任何消息。
“大概率是用的浸润法,也就是在镜头和硅片之间加液体,他们光刻机条线的负责人是林本坚博士,他一直坚持浸润法是半导体工艺突破的关键。
只是不知道他们是如何绕过浸润法的困难。”佐藤博人说,他是EUVA在御殿场市的研发团队的负责人。
在光刻机失利后,佐藤博人同样经历了很长一段时间的失落和沉寂,和小松正志比起来,他最后还是走出来了,甚至换了个研究方向重新活跃在学术界。
此时意气风发指点新芯光刻机技术的他们,不会知道这个未来对霓虹的光刻机产业只会更加残酷。
尼康和佳能这次连残羹冷炙都吃不到了
第三百一十四章 弯道超车-->>(第1/3页),请点击下一页继续阅读。
最新网址:wap.wangshugu.org