片进行曝光，简单而言，这里可以主要用三句话概括光刻机里发生了什么：
1.光掩模：透镜组和硅片工作台会精密对准和调平。
2.光源放光：大家可以想象成一个几个发光的激光手电筒。
3.移动工件台：让硅片有序曝光。
三句话，让一台光刻机花了10亿元以上，其中自然有自己的道理。
这三句话虽然平平无奇，但是里面隐藏了人类工程学的众多巅峰之作，还包括马天系统开发出来的黑科技技术。
比如透镜。表面起伏不超过0.05nm的蔡司透镜，是地球文明可以说最接近三体水滴的得意之作，平整度达到了原子级。
难度系数极高，设计、材料、工艺、组装缺一不可。
由穆尼国蔡司公司生产，蔡司为阿斯麦尔的光学部件独家供应商，蔡司的光刻机光学部件就约占阿斯麦尔产品成本的26%。
“独家”代表无可替代，“26%”表示成本极高。
从这里也可以看出这个透镜多吊了。
当然，这个技术被马天带人攻破了，原因就是不想给蔡司公司交费。
再比如对准。对准需靠能同步和曝光的双工件台系统，它是爱斯麦尔打败岛国光刻机厂商的法宝之一，现在也是天宇星海打败岛国光刻机厂商的法宝之一。
再比如最重要的光源——由60千瓦的激光驱动的极紫外光把液态锡轰成等离子体时发出的同感光波。
是马天根据系统在1000万影响值奖励给他的《一种新的高精度激光加工探究》论文研发出来的特殊光源（122章），就这个技术，正常企业最少要花5年时间才能研究出来。
还有很多，这里就不举例了。
总而言之，光刻机称为人类巅峰机械之作不是没有道理，价格能到数10亿，也绝对是物有所值。
几分钟后，加工后的硅片从光刻机出来，进入下一道工艺——烘焙，又简称后烘。
这一步的目的是通过加热，让光刻胶中光化学反应充分完成，可以弥补曝光强度不足的问题。
同时还能减少光刻机显影后，因为驻波效应产生的一圈圈纹路。
后烘之后，再把之前曝光的部分溶解清除，光掩模上的图形就出现在了光刻胶上，再用去离子水冲洗。
最后再进行一遍烘焙，不过这次是叫“坚膜烘焙”，当然这里是针对湿法，如果是用等离子体的干法刻蚀，这一步可以省略。
进行了这么多步骤后，才来到观察精度和测量，也就是这次马天最直观要展示的成果——光刻精度展示。
9nm的工艺，用普通的光学显微镜肯定不够看了，众人也是来到了原子力显微镜台。
白衣服的工作人员把刚刚经过好几步加工的硅片放在了显微镜台上，众人可以通过仪器精细查看上面的精度了。
9nm的测量结果，赫然呈现在大屏幕上。
聂振远也不认为马天会故弄玄虚半天骗他，也就是说，天宇星海真的有光刻9nm精度芯片的技术。
现在只要夏为有一张自己的芯片设计图，天宇星海就能最少帮他们造出9nm精度的芯片。
(本章完)