返回

第一百三十二章 提前截胡台积电(4K)

首页
关灯
护眼
字:
上一章 回目录 下一页 进书架
最新网址:wap.wangshugu.org
    “你怎么知道采用ArF技术会造成更多的线边波动和不规则性?

    关于ArF技术路线,在IEEE的杂志上有,但是无论是尼康还是佳能的工程师发表在上面的论文,都只说了好处没有说缺陷。”林本坚惊讶地问。

    周新说:“尼康和佳能为了误导竞争对手,故意不谈ArF技术路线的缺点。

    为的就是让竞争对手也踩到这个坑里去。

    他们已经投入了大笔研发经费到ArF技术路线,没有找到办法解决ArF光源带来的线边波动和不规则性问题,所以他们认为其他竞争对手也解决不了这个问题。”

    林本坚默默点头:“没错。

    就是这样。”

    周新继续说:“在技术路线上误导竞争对手,这不是集成电路领域的常规操作吗?”

    林本坚还是很好奇,他知道ArF技术路线的缺陷,是因为他从事这个领域的研究超过二十年,他有大量的人脉。

    由于保密协议的缘故,他的朋友无法直接告诉他,只能通过暗示的方式,向他透露ArF技术路线有重大缺陷。

    他对此也只是猜测,没有证据的猜测。

    为什么周新能够说得如此笃定,并且把ArF技术路线的缺陷也说得如此清楚。

    要知道有资格进行ArF技术路线实验的实验室,也就那几家光刻机公司。

    周新战术喝水之后说:“林伯,我知道你在想什么,我是不是买通了尼康的技术人员,从他们那获得了技术机密。

    实际上ArF技术路线的缺陷,这很容易就推理出来。

    ArF光源的波长为193纳米,相较于KrF光源的248纳米波长更短。短波长光源在光刻过程中,显然会受到更严重的散射、衍射和光学近场效应的影响,导致图案传输过程中的线边波动和不规则性增加。

    同时使用ArF光源的光刻技术用于更先进的制程节点中,这导致晶圆需要实现更高的分辨率。

    随着尺寸的缩小,光刻过程中的图案边缘更容易受到光学近场效应、衍射和光刻胶吸收等因素的影响,从而导致线边波动和不规则性。

    这是基于物理知识的推论。”

    林本坚鼓掌,“精彩的推演和敏锐的洞察力。

    当时正明和我说他从燕大找到了天才学生的时候,我还在想到底有多天才,让他那么得意。

    你在这方面的天赋比我猜测的还要更出色。

    伱刚刚说的还差了两点。

    一点是ArF光源的波长更容易被光刻胶吸收,这会导致光刻胶的曝光不均匀,进而影响成像质量。所以需要专门针对ArF光源设计专门的光刻胶。

    但是专门针对ArF光源设计光刻胶,来减少吸收呢,新光刻胶又很有可能会进一步造成线边波动和不规则性。

    另外采用ArF来构建先进制程,会采用多重曝光技术、相位移光掩膜技术和偏振光技术等。

    这些技术一定程度上又会增加线边波动和不规则性。

    所以造成线边波动的原因比你猜测的更多。”

    周新问:“可是有这么多困难,为什么前辈你还是看好ArF路线?”

    周新怎么知道林本坚看好ArF技术路线,因为林本坚这次在参加光学大会接受采访的时候自己说的。

    “是帮光刻机公司打掩护吗?”

    林本坚笑了:“我已经从IBM离职了,IBM这几年也几乎没有在光刻机领域继续投入了。

    我又没有为尼康或者佳能工作,为什么要帮他们打掩护。

    我当然是从我内心出发更加看好ArF技术路线。

    我们刚刚说的是ArF的缺点,这些缺点只是暂时的。

    在KrF光源代替g线和i线的过程中,同样有很多困难。”

    g线是436nm波长的光源,i线是365nm波长的光源。

    “相对于g线和i线,KrF需要新的光刻胶和抗反射涂层材料来适应KrF光源的特性。

    同时KrF要求更高性能的光学系统和光掩膜材料。当时需要采用更先进的透镜和光学元件,以实现更高的数值孔径和分辨率。

    此外,光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。

    KrF还需要优化曝光过程,以提高成像质量。我们当时主要采用了双重曝光和离焦曝光技术来降低光刻

第一百三十二章 提前截胡台积电(4K)-->>(第1/3页),请点击下一页继续阅读。
最新网址:wap.wangshugu.org
上一章 回目录 下一页 存书签